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真空镀膜加工技术的一般术语及工艺

2.1.8激光束蒸发：通过激光束加热蒸发材料的蒸发。

2.1.9间接加热的蒸发：在加热装置(例如小舟形蒸发器,坩埚,灯丝,加热板,加热棒,螺旋线圈等)中使蒸发材料获得蒸发所须的热量并通过热传导或热辐射方式传递给蒸发材料的蒸发。

2.1.10闪蒸：将很少量的蒸发材料间断地做瞬时的蒸发。

2.2真空溅射：在真空中，惰性气体离子从靶表面上轰击出原子（分子）或原子团的过程。

2.2.1反应性真空溅射：通过与气体的反应获得理想化学成分的膜层材料的真空溅射。

2.2.7热阴频溅射（三极型溅射）hotcathodehighfrequencysputtering：借助于热阴极和阳极获得非自持气体放电，气体放电产生的离子，在靶表面负电位的作用下加速而轰击靶的溅射。

2.2.8离子束溅射ionbeamsputtering：利用特殊的离子源获得的离子束使靶的溅射。

2.2.9辉光放电清洗glowdischargecleaning：利用辉光放电原理，使基片以及膜层表面经受气体放电轰击的清洗过程。

2.3物***相沉积；PVDphysicalvapordeition：在真空状态下，镀膜材料经蒸发或溅射等物理方法气化，沉积到基片上的一种制取膜层的方法。

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　真空镀膜加工已有200年的历史。在19世纪可以说一直是处于探索和预研阶段。探索者的艰辛在此期间得到充分体现。1805年, 开始研究接触角与表面能的关系(Young)。1817年, 透镜上形成减反射膜(Fraunhofer)。1839年, 开始研究电弧蒸发(Hare)。开始研究真空溅射镀膜(Grove；Pulker)。1857年, 在氮气中蒸发金属丝形成薄膜(Faraday；Conn)。 1874年, 报道制成等离子体聚合物(Dewilde；Thenard)。1877年,薄膜的真空溅射沉积研究成功(Wright)。1880年, 碳氢化合物气相热解(Sawyer；Mann)。1887年, 薄膜的真空蒸发(坩埚) (Nahrwold；Pohl；Pringsheim)。开始研制形成减反射膜的化学工艺。研究成功四氯化钨的氢还原法(CVD)； 膜厚的光学干涉测量法(Wiener)。